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賽瑞達(dá)智能電子裝備（無(wú)錫）有限公司
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賽瑞達(dá)智能電子裝備迎新年喜訊：成功簽訂六臺(tái)8英寸立式爐設(shè)備訂單，彰顯半導(dǎo)體領(lǐng)域?qū)嵙εc創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)

2025-01-16
在 2025 年新年的曙光中，賽瑞達(dá)智能電子裝備（無(wú)錫）有限公司迎來(lái)了振奮人心的好消息 —— 成功新接六臺(tái) 8 英寸立式爐氧化爐和立式 LPCVD 設(shè)備訂單。

立式LPCVD技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)與前景展望

2024-12-17
立式LPCVD技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)之一是提高沉積速率和薄膜質(zhì)量。隨著半導(dǎo)體器件尺寸的不斷縮小，對(duì)薄膜的沉積速率和質(zhì)量要求也越來(lái)越高。

立式LPCVD技術(shù)在半導(dǎo)體制造中的應(yīng)用

2024-12-10
立式LPCVD技術(shù)的原理是利用熱分解反應(yīng)將氣體分子分解成原子或分子，并在襯底表面上沉積形成薄膜。

立式氧化爐在環(huán)保領(lǐng)域的應(yīng)用

2024-11-19
立式氧化爐作為一種高效、環(huán)保的工業(yè)爐具，在環(huán)保領(lǐng)域中得到了廣泛的應(yīng)用。

立式氧化爐在工業(yè)生產(chǎn)中的應(yīng)用

2024-11-16
立式氧化爐是一種采用氧化反應(yīng)原理進(jìn)行加熱的設(shè)備。

臥式LPCVD技術(shù)助力半導(dǎo)體行業(yè)實(shí)現(xiàn)突破

2024-10-29
相比于傳統(tǒng)的垂直LPCVD技術(shù)，臥式LPCVD技術(shù)具有更高的沉積速率和更均勻的薄膜厚度分布。
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